光周波数測定システム

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小池晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000370491
Publication number (International publication number)：2002174552
Application date： Dec. 05, 2000
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】付加的な光周波数測定装置装置の使用を必要とすることなく、しかも、被測定レーザの周波数揺らぎに影響されることなく、高速且つ高分解能な光周波数測定を行う。【解決手段】光周波数コム発生器43により、レーザ光を変調して、上記レーザ光の周波数を中心周波数とし、変調周波数fm+Δf間隔毎に側帯波を有する第1の光周波数コムと変調周波数fm間隔毎に側帯波を有する第2の光周波数コムとを所定時間τ毎に交互に生成し、遅延ファイバ45により所定時間τの時間遅延を与え、+fSの周波数シフトが与えられた光周波数コムと被測定レーザ光との干渉による光強度の変化を検出する検出器48Aからの第1の周波数信号と、上記光周波数コムと被測定レーザ光との干渉による光強度の変化を第2の検出器48Bからの第2の周波数信号と、-fSの周波数シフトが与えられた光周波数コムと被測定レーザ光との干渉による光強度の変化を検出する第3の検出器48Cからの第3の周波数信号との間の差周波数又は和周波数を周波数カウンタ49により測定する。

Claim (excerpt)：

レーザ光を出射するレーザ光源と、上記レーザ光源から出射されたレーザ光に周波数シフトを与える周波数シフト手段と、上記周波数シフト手段を介してレーザ光が入射される光周波数コム発生手段と、上記光周波数コム発生手段により生成された光周波数コムと被測定レーザ光とを合成する光合成手段と、上記光合成手段により合成された光周波数コムと被測定レーザ光との干渉による光強度の変化を検出する検出手段と、上記検出手段による検出出力として得られる上記周波数シフト手段によるレーザ光の周波数シフトの有無、及び、上記光周波数コム発生手段における変調周波数のシフトの有無に応じた上記光周波数コム発生手段から得られる光周波数コムと被測定レーザ光との干渉による各周波数信号間の差周波数又は和周波数を測定する周波数測定手段とを備えることを特徴とする光周波数測定システム。

IPC (4)：

G01J 9/02 , G02F 1/035 , G02F 2/00 , G02F 2/02

FI (4)：

G01J 9/02 , G02F 1/035 , G02F 2/00 , G02F 2/02

F-Term (16)：

2H079AA02 , 2H079CA11 , 2H079DA03 , 2H079EA03 , 2H079EB04 , 2H079HA15 , 2K002AA07 , 2K002AB12 , 2K002AB18 , 2K002BA01 , 2K002BA06 , 2K002CA03 , 2K002DA06 , 2K002EA04 , 2K002GA10 , 2K002HA02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

光周波数基準光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-188436 Applicant：アンリツ株式会社
特開平4-118534

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