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J-GLOBAL ID：200903087434980139
プラズマ処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井上 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993273142
Publication number (International publication number)：1995106096
Application date： Oct. 04, 1993
Publication date： Apr. 21, 1995
Summary：
【要約】【目的】 高周波アンテナを用いて低圧でプラズマを発生させそのプラズマにより処理を行うにあたって、高周波アンテナの保護層の剥離や、高周波アンテナを載置する絶縁体の割れを防止すること。【構成】 渦巻きコイルよりなる高周波アンテナ6の外周面を耐食性材料よりなる保護層60で複覆し、これを気密構造のチャンバ2内にて例えばセラミックよりなる冷却プレート7上に載置する。高周波アンテナ6に高周波電力を印加すると発熱するが、例えば冷却水により冷却プレート7を介してアンテナ6を冷却することによりその昇温が抑えられ、このためアンテナ6と保護層60との間の界面における熱応力が小さくなるので保護層60の剥離が防止できる。
Claim (excerpt)：
気密構造のチャンバ内に載置台を設け、前記チャンバ内に処理ガスを導入してプラズマ化し、そのプラズマにより載置台上の被処理体を処理するプラズマ処理装置において、前記載置台に対向してチャンバの中に設けられ、外周面が耐食性材料よりなる保護層で被覆された平面状のコイルよりなる高周波アンテナとこの高周波アンテナに高周波電力を印加するための高周波電源部と、前記高周波アンテナを冷却するための冷却手段と、を備えてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (5)：
H05H 1/46
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01L 21/68
, H01Q 9/27
