Pat
J-GLOBAL ID：200903087472986051
コバルト化成皮膜の形成方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
深見 久郎 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991316081
Publication number (International publication number)：1993009745
Application date： Nov. 29, 1991
Publication date： Jan. 19, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】クロム酸法に代替するものとして、金属の下地上に耐食性および塗料密着特性があるコバルト化成皮膜を形成する。【構成】金属下地上にコバルト化成皮膜を形成するための化学化成皮膜溶液であって、約7.0〜7.2のpHを有しかつ可溶性のコバルト-III六配位錯体を含む水溶液であり、このコバルト-III六配位錯体の濃度は溶液のガロン当り約0.1モルからコバルト-III六配位錯体の飽和限界までである。【効果】耐食性および塗料密着性を示す皮膜を形成することができる。
Claim (excerpt)：
金属下地上にコバルト化成皮膜を形成するための方法であって、(a)可溶性のコバルト-III六配位錯体の水溶液を含むコバルト化成溶液を用意するステップを含み、前記コバルト-III六配位錯体の濃度は溶液のガロン当り約0.1モルから前記コバルト-III六配位錯体の飽和限界までであり、さらに、(b)十分な時間、前記溶液に前記金属下地を接触させるステップを含み、それにより前記コバルト化成皮膜が形成される、方法。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all
Return to Previous Page
