Pat

J-GLOBAL ID：200903087479609857

レチクルおよびレチクル製造方法

Inventor： 松尾 隆弘 ,  遠藤 政孝 ,  山下 一博 ,  谷 美幸 ,  笹子 勝
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992092517
Publication number (International publication number)：1993289307
Application date： Apr. 13, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 真空紫外光を用いたリソグラフィにおいて、レチクルを簡易にかつ高精度に製造する。【構成】 石英基板11上にArFエキシマレーザ(193nm)に対して透過率がほぼ0%の電子線感光レジスト12を塗布し、電子線感光レジスト12上に電子ビームにより所望のパターンを描画し、現像し、レジストパターンを形成した。この様にして形成したレジストパターンはArFエキシマレーザリソグラフィにおけるレチクルとして使用することができ、レチクルを簡易にかつ高精度に製造することができた。レジストをパターン形成したレチクル16上にArFエキシマレーザ15を照射して、Si基板13上のArF感光レジスト14を露光して、所望のパターンを高コントラストで転写することができた。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上にレジストパターンを有する構造を備えて成ることを特徴とするレチクル。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027