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J-GLOBAL ID：200903087483485836
半導体プロセス終点判定用モニタ装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991331699
Publication number (International publication number)：1993166905
Application date： Dec. 16, 1991
Publication date： Jul. 02, 1993
Summary：
【要約】【構成】発光モニタ装置に既知の光源6からの光を半導体製造装置内に観測窓2を介し入射させその散乱反射光を受光し観測窓2の透過率を計測できる様にした。【効果】半導体製造装置の反応容器内からの光信号の検出が精度良く出来るようになり、半導体製造過程の歩留まりの向上と高スループット化が実現する。
Claim (excerpt)：
半導体素子製造プロセスの終点判定用モニタ装置において、光源からの既知の光強度を計測することによりモニタセンサの校正を行う手段を設けたことを特徴とする発光モニタ装置。
IPC (3)：
H01L 21/66
, H01L 21/302
, H01L 21/203
