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J-GLOBAL ID：200903087484827455

処理粉体の製造方法

Inventor： 金丸 哲也 ,  福井 寛 ,  山口 道広
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Agent (1)： 長谷川 洋子 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994249988
Publication number (International publication number)：1996092484
Application date： Sep. 19, 1994
Publication date： Apr. 09, 1996
Summary：

【要約】【目的】 環境上安全で、製造コストを低減化することのできる、安全で安定な処理粉体の製造方法を提供する。【構成】 Si-H基を有するシリコーン化合物で粉体を被覆後、該シリコーン化合物のSi-H基部分に、Si-H基と反応することのできる化合物を付加する処理粉体の製造方法において、反応溶媒として実質的に水のみを用いて前記付加を行うことを特徴とする処理粉体の製造方法。

Claim (excerpt)：

Si-H基を有するシリコーン化合物で粉体を被覆後、該シリコーン化合物のSi-H基部分に、Si-H基と反応することのできる化合物を付加する処理粉体の製造方法において、反応溶媒として実質的に水のみを用いて前記付加を行うことを特徴とする処理粉体の製造方法。

IPC (6)：

C08L 83/06 LRX ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/42 ,  C08J 7/16 ,  C08K 9/06 ,  C09C 3/12 PCH