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J-GLOBAL ID：200903087490691719

酸性シリカゾルの製造方法

Inventor： 渡部 淑胤 ,  鹿島 吉恭 ,  安藤 幹夫 ,  三浦 敬 ,  濱田 恭好
Applicant, Patent owner： 日産化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993235026
Publication number (International publication number)：1994199515
Application date： Sep. 21, 1993
Publication date： Jul. 19, 1994
Summary：

【要約】【目的】 pHが2〜5であり、粒子径が4〜30mμである安定な酸性シリカゾルの製造法を提供する事を目的とする。【構成】 安定な酸性シリカゾルは下記(a)、(b)及び(c)工程より成ることを特徴とする。(a);粒子径が4〜30mμであり、かつpHが2〜9のシリカゾルに、Al2 O3 /SiO2 モル比が0.0006を越えるが、0.004以下になるように、アルミン酸アルカリ水溶液を添加する工程、(b);上記(a)工程で得られたシリカゾルを80〜250°Cで0.5〜20時間加熱する工程、(c);上記(b)工程で得られたシリカゾルをイオン交換樹脂に接触させることにより、pH2〜5の酸性シリカゾルを生成させる工程。

Claim (excerpt)：

下記(a)、(b)及び(c)工程からなる、コロイダルシリカの粒子径が4〜30ミリミクロンであり、pHが2〜5である安定な酸性シリカゾルの製造方法。(a)コロイダルシリカの粒子径が4〜30ミリミクロンであり、かつpHが2〜9であるシリカゾルに、Al2 O3 /SiO2 モル比が0.0006を越えるが、0.004以下になるように、アルミン酸アルカリ水溶液を添加する工程、(b)上記(a)工程により得られたシリカゾルを80〜250°Cで0.5〜20時間加熱する工程、(c)上記(b)工程で得られたシリカゾルを陽イオン交換樹脂又は陽イオン交換樹脂と陰イオン交換樹脂に接触させることにより、pHが2〜5の酸性シリカゾルを生成させる工程。

IPC (2)：

C01B 33/148 ,  C01B 33/141

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭58-110415
  
• 特開昭64-072913
  

Cited by examiner (1)

• 特開昭58-110415