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J-GLOBAL ID：200903087494109577

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 漢那 慎一 ,  水谷 一良 ,  佐々木 知也
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003018852
Publication number (International publication number)：2004233429
Application date： Jan. 28, 2003
Publication date： Aug. 19, 2004
Summary：

【課題】160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像力なポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)フッ素原子を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(C)フッ素原子及び酸の作用により分解する基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液中での溶解度が増大する、分子量3000以下の低分子酸分解性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)フッ素原子を有するアルカリ可溶性樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び (C)フッ素原子及び酸の作用により分解する基を有し、酸の作用によりアルカリ水溶液中での溶解度が増大する、分子量3000以下の低分子酸分解性化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (2)：

G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (10)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC20