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J-GLOBAL ID：200903087496469260

排ガス中の水より高沸点の物質を濃縮する方法と装置

Inventor： 川瀬 泰人 ,  李 基良
Applicant, Patent owner： 日本リファイン株式会社
Agent (2)： 友松 英爾 ,  岡本 利郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004059668
Publication number (International publication number)：2005246218
Application date： Mar. 03, 2004
Publication date： Sep. 15, 2005
Summary：

【課題】 原ガス中の水分含有量が夏場と冬場で大きく変動しても、また処理済ガス中に含有されて排出される水分量と回収液に含有されることが必要な水分量との間に大きな差がある場合でも、回収液中の水分濃度を正確かつ一定に保つことができる「排ガス中の水より高沸点の物質を濃縮する方法および装置」の提供。【解決手段】 トレイを多段に設けてなる段塔または充填塔の下部から、水より高沸点の物質を含む排ガスを導入し、一方塔上部からは水を供給し、前記高沸点物質を濃縮するとともに水中に移行させガスを処理する方法において、排気ガス入口の排気ガス温度と塔上部排出口における処理済ガス温度との差ならびに塔底部からの回収水溶液中の前記物質の濃度に基づいて、前記給水量を制御すること。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

トレイ上に存在する水の中を通らなければガスが上部に抜けられない構造のトレイを多段に設けてなる段塔または親水性充填物を充填した充填塔の下部から、水より高沸点の物質を含む排ガスを導入し、一方、塔上部からは水を供給し、塔下部では排ガスと水との気液平衡関係により前記水より高沸点の物質を濃縮するとともに、塔上部では残存する排ガス中の前記物質をさらに水中に移行させることにより、塔上部からは処理済ガスを排出し、塔底部からは排ガス中の前記物質を含む水溶液を回収することによる、排ガス中の水より高沸点の物質を濃縮する方法において、排気ガス入口の排気ガス温度と処理済ガスの塔上部排出口における処理済ガス温度との差に基づいて前記塔上部からの給水量を制御すると共に、塔底部からの回収水溶液中の前記物質の濃度に基づいて更に前記給水量を制御することを特徴とする排ガス中の水より高沸点の物質を濃縮する方法。

IPC (3)：

B01D53/44 ,  B01D53/34 ,  B01D53/77

FI (2)：

B01D53/34 117C ,  B01D53/34

F-Term (17)：

4D002AA14 ,  4D002AA40 ,  4D002AB03 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA14 ,  4D002CA02 ,  4D002CA07 ,  4D002DA35 ,  4D002FA01 ,  4D002GA02 ,  4D002GA05 ,  4D002GB03 ,  4D002GB06 ,  4D002GB20 ,  4D002HA04 ,  4D002HA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭46-007862