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J-GLOBAL ID：200903087504794869

硬基板塗布装置

Inventor： 山崎 信哉 ,  松岡 寛 ,  熊谷 広文 ,  尾崎 正文 ,  江本 辰弥
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 山田 文雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992140968
Publication number (International publication number)：1993309303
Application date： May. 06, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 吸引ロッドを厚塗り部分に接触させて余分な液を除去する場合に、基板の搬送を円滑にできるようにする。また厚塗り部分の吸引を均一に行ってこの付近の塗布状態を良好にする。【構成】 基板をストッパで停止させてその後端厚塗り部に吸引ロッドを接触させて吸引する一方、基板を押えローラで押え基板とパスロ-ルとの接触圧を増加させ、パスロ-ルによる基板の移送力を増加させることにより、ストッパの解放と同時に基板を確実に吸引ロッドから引き離させる。また、吸引ロッドは厚塗り部に接触してから所定時間経過して吸引を開始するようにし、吸引開始前に厚塗り部の液が吸引ロッド全体に均等に広がって安定するのを待って吸引する。

Claim (excerpt)：

下部が塗布液槽に浸漬されたバーと、このバーの上方に対向配置された押圧ロ-ルとの間に硬基板を挟んで送ることにより、前記硬基板の下面に塗布液を塗布する硬基板塗布装置において、前記基板を搬送するパスロ-ルと、前記バーから前記硬基板の送り方向に離れて前記硬基板の下方に昇降可能に配設され、少なくとも上部に長手方向に沿った吸引口を有する吸引ロッドと、この吸引ロッドより基板の送り方向に配設された基板検出センサおよび基板ストッパと、前記吸引ロッドより基板送り方向にあって前記基板の上面に転接・離隔する押えローラと、前記吸引ロッド内を吸引する吸引ポンプと、塗布した基板を前記基板検出センサの出力に基づき前記基板ストッパで停止させた状態で前記吸引ロッドを基板の後端付近に接触させて吸引しつつ前記基板に前記押えローラを転接させかつ基板ストッパを解放して基板を移動させるコントローラとを備えることを特徴とする硬基板塗布装置。

IPC (5)：

B05C 1/02 102 ,  B05C 11/02 ,  B05C 13/00 ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/027