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J-GLOBAL ID:200903087562488670
マスク洗浄方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
國分 孝悦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991359670
Publication number (International publication number):1993181262
Application date: Dec. 27, 1991
Publication date: Jul. 23, 1993
Summary:
【要約】【目的】 洗浄後のマスクを常に清浄化されたマスクケースに収納させることができ、しかもマスクとマスクケースとを洗浄前後において常に対応させることができるようにする。【構成】 マスク1とこのマスク1を収納するマスクケース2とをそれぞれ分離手段11によってそれぞれ分離し、分離されたマスク1及びマスクケース2を第1の洗浄手段12及び第2の洗浄手段13によってそれぞれ並行して洗浄し、洗浄後のマスク1を洗浄後のマスクケース2に収納手段14によって収納する。
Claim (excerpt):
マスクケースに収納された露光用のマスクを洗浄するマスク洗浄方法において、前記マスクと前記マスクケースとをそれぞれ分離し、分離したマスク及びマスクケースをそれぞれ並行して洗浄し、洗浄後のマスクを洗浄後のマスクケースに収納することを特徴とするマスク洗浄方法。
IPC (3):
G03F 1/08
, B08B 9/20
, H01L 21/304 341
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