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J-GLOBAL ID：200903087568802857

ヒータ

Inventor： 島田 真幸 ,  本多 恭章 ,  三谷 慎一
Applicant, Patent owner： 東芝機械株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994149053
Publication number (International publication number)：1996017745
Application date： Jun. 30, 1994
Publication date： Jan. 19, 1996
Summary：

【要約】【目的】向上した寿命を有する、半導体CVD処理装置における半導体ウエハ直接加熱用ヒータを提供する。【構成】黒鉛からなるヒータ本体11、およびヒータ本体11の全表面を覆って形成された保護膜12を備える。保護膜12は、高純度熱分解黒鉛からなる単一層膜、または高純度熱分解黒鉛からなる第1の層と高純度炭化ケイ素からなる第2の層との積層膜からなる。

Claim (excerpt)：

半導体CVD処理装置の半導体ウエハ直接加熱用ヒータであって、黒鉛からなるヒータ本体、および該ヒータ本体の全表面を覆って形成された保護膜を備え、該保護膜は、高純度熱分解黒鉛からなる単一層膜、または高純度熱分解黒鉛からなる第1の層と高純度炭化ケイ素からなる第2の層との積層膜からなることを特徴とするヒータ。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/46 ,  H05B 3/00 370 ,  H05B 3/14