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J-GLOBAL ID：200903087577426892

高圧処理装置

Inventor： 井上 陽一 ,  山形 昌弘
Applicant, Patent owner： 株式会社神戸製鋼所
Agent (1)： 小谷 悦司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001117701
Publication number (International publication number)：2002313764
Application date： Apr. 17, 2001
Publication date： Oct. 25, 2002
Summary：

【要約】【課題】 クリーンルーム内に設置可能な高圧処理装置において、必要なタイミングで薬液を効率よく供給することができ、コスト低減に有効な高圧処理装置を提供すること。【解決手段】 被処理体に加圧下で高圧流体と高圧流体以外の薬液とを接触させて被処理体上の不要物質の除去処理を行うための装置であって、複数の高圧処理チャンバーと、これらの高圧処理チャンバーに高圧流体を供給するための共通の高圧流体供給手段と、処理後に前記高圧処理チャンバーから排出される高圧流体と薬液との混合物から気体成分を分離するための分離手段と、前記各高圧処理チャンバーに対し、被処理体を出入するための共通の出入手段とを備え、高圧処理チャンバーに薬液を供給するための薬液供給手段を、各高圧処理チャンバー毎に設けた高圧処理装置である。

Claim (excerpt)：

被処理体に加圧下で高圧流体と高圧流体以外の薬液とを接触させて被処理体上の不要物質の除去処理を行うための装置であって、複数の高圧処理チャンバーと、これらの高圧処理チャンバーに高圧流体を供給するための共通の高圧流体供給手段と、処理後に前記高圧処理チャンバーから排出される高圧流体と薬液との混合物から気体成分を分離するための分離手段と、前記各高圧処理チャンバーに対し、被処理体を出入するための出入手段とを備え、高圧処理チャンバーに薬液を供給するための薬液供給手段を、各高圧処理チャンバー毎に設けたことを特徴とする高圧処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/304 643 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306 ,  G03F 7/42

FI (5)：

H01L 21/304 643 Z ,  B08B 3/08 B ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/306 J ,  H01L 21/30 572 B

F-Term (18)：

2H096AA25 ,  2H096GA21 ,  2H096HA23 ,  2H096LA01 ,  3B201AA03 ,  3B201BB01 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201CC01 ,  3B201CD22 ,  5F043CC16 ,  5F043DD06 ,  5F043EE07 ,  5F043EE21 ,  5F043EE28 ,  5F043EE31 ,  5F046MA05 ,  5F046MA06