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J-GLOBAL ID:200903087593643607
電磁波遮蔽板の製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小西 淳美
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997297947
Publication number (International publication number):1999119675
Application date: Oct. 16, 1997
Publication date: Apr. 30, 1999
Summary:
【要約】【課題】 品質的にも対応でき、量産性に適する、金属薄膜からなるメッシュを設けた電磁波遮蔽板の製造方法を提供する。【解決手段】 ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性と透視性を有する電磁波遮蔽板を、量産するための製造方法であって、少なくとも、順次、(a)めっき剥離性を有する連続するフープ状(帯状)の基板の面に、連続ないし間欠的にメッシュをめっき形成するための耐めっき性のレジストマスクを形成するマスキング工程と、(b)基板面のレジストマスクから露出している部分に、メッシュ作成のための所定材質からなる金属薄膜層を電着形成する電着工程と、(c)接着剤を介して、電着形成された金属薄膜層を電磁波遮蔽板用の透明基板面に接着転写する転写工程とを有する。
Claim (excerpt):
ディスプレイの前面に置いて用いられる、透明な基板の一面に金属薄膜からなるメッシュを積層した電磁波遮蔽性と透視性を有する電磁波遮蔽板を、量産するための製造方法であって、少なくとも、順次、(a)めっき剥離性を有する連続するフープ状(帯状)の基板の面に、連続ないし間欠的にメッシュをめっき形成するための耐めっき性のレジストマスクを形成するマスキング工程と、(b)基板面のレジストマスクから露出している部分に、メッシュ作成のための所定材質からなる金属薄膜層を電着形成する電着工程と、(c)接着剤を介して、電着形成された金属薄膜層を電磁波遮蔽板用の透明基板面に接着転写する転写工程とを有することを特徴とする電磁波遮蔽板の製造方法。
IPC (5):
G09F 9/00 309
, G09F 9/00 318
, G12B 17/02
, H01J 9/20
, H05K 9/00
FI (5):
G09F 9/00 309 A
, G09F 9/00 318 Z
, G12B 17/02
, H01J 9/20 A
, H05K 9/00 V
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
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電磁波漏洩防止フィルタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-056154
Applicant:株式会社富士通ゼネラル
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特開昭61-149484
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特開昭57-145400
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