狭域帯レーザー発生装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：奥山尚男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995286443
Publication number (International publication number)：1996228038
Application date： Oct. 06, 1995
Publication date： Sep. 03, 1996
Summary：

【要約】【課題】直線狭域帯化光学系を利得媒体の両側に効果的に用いることによって、従来技術によるシステムを改良した狭域帯レーザー発生装置を提供する。【解決手段】狭域帯レーザー発生装置は、放射線を反射させるための第1および第2反射手段(全反射ミラー12、14)を備える光学式共鳴器と、共鳴器内で放射線を増幅するためのレーザー媒体10と、放射線から所定の波長成分を選択するために前記第1および第2反射手段間に設けられた選択手段(ファブリー・ペローのエタロン22)と、放射線を偏光して偏光面を生成する偏光手段(偏光ビームスプリッタ20)を備えている。さらに、高強度の非常に狭い帯域幅の放射線を得るために、偏光面を回転させる回転手段(ファラデー回転体18)が設けられている。そして、出力ビーム24は、偏光ビームスプリッタ20によって共鳴器の外部に伝達される。

Claim (excerpt)：

A. 共鳴器内で放射線を反射する第1および第2反射手段(12、14)を備える共鳴器と、B. 前記共鳴器内で放射線を増幅するためのレーザー媒体(10)と、C. 前記放射線から所定の波長成分を選択するために前記共鳴器内に設けられる選択手段(22)と、D. 前記放射線を偏光して偏光面を生成する偏光手段(20)と、E. 前記放射線の前記偏光面を回転させる回転手段(18)と、F. 前記放射線を出力する手段(20)であって、この出力手段に対する前記放射線の回転された前記偏光面の方向に応じて、前記放射線の一部を前記共鳴器の外部に出力する手段(20)と、によって構成されることを特徴とする狭域帯レーザー発生装置。

IPC (9)：

H01S 3/105 , G02B 5/18 , G02F 1/09 501 , H01L 21/027 , H01S 3/08 , H01S 3/10 , H01S 3/1055 , H01S 3/134 , H01S 3/225

FI (9)：

H01S 3/105 , G02B 5/18 , G02F 1/09 501 , H01S 3/10 Z , H01S 3/1055 , H01S 3/134 , H01L 21/30 515 B , H01S 3/08 Z , H01S 3/223 E

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (10)

特開平3-087084
特開平3-209888
特開平3-209889

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