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J-GLOBAL ID：200903087643523977

酸化物薄膜の作製方法

Inventor： 南 努 ,  峠 登 ,  片岡 一也
Applicant, Patent owner： ダイセル化学工業株式会社
Agent (1)： 古谷 馨 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992320283
Publication number (International publication number)：1994166501
Application date： Nov. 30, 1992
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：

【要約】【構成】 ゾルゲル法で酸化物薄膜を作製するに際して、原料に光吸収波長を変える錯化剤を加え、光を照射する。【効果】 光吸収が長波長側にシフトするため、利用可能な光源や光学系の選択範囲が広がる。また、酸化物薄膜の形成のための熱処理が不要である。

Claim (excerpt)：

ゾルゲル法を用いる酸化物薄膜作製方法において、原料に光吸収波長を変える錯化剤を加え、光を照射することにより酸化物薄膜を作製する方法。

IPC (2)：

C01B 13/14 ,  C01G 25/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-313329
  
• 特開平3-279221
  
• 特開平3-279220
  
• 特開昭61-097159