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J-GLOBAL ID：200903087643830993

X線投影露光装置

Inventor：
押野 哲也

About 押野 哲也


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996048679
Publication number (International publication number)：1997246152
Application date： Mar. 06, 1996
Publication date： Sep. 19, 1997
Summary：
【要約】【課題】 パターンが形成されたマスクにゴミが付着することを効果的に防ぐことが可能であり、その結果、露光時においてマスクパターンに対応して形成されるレジストパターンに欠陥が生じることを有効に防止することができるX線投影露光装置を提供すること。【解決手段】 少なくとも、X線源1と、該X線源1から発生するX線20を所定位置に配置されたフォトマスク3に照射する照明光学系2と、該フォトマスク3のステージ4と、該フォトマスク3からのX線22を受けて該フォトマスク3に形成されたパターンを所定位置に配置されたウエハー6に投影結像する投影結像光学系5と、該ウエハ6のステージ7とを備えたX線投影露光装置において、前記フォトマスク3に近接させてフィルター8を設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
Claim (excerpt)：
少なくとも、X線源と、該X線源から発生するX線を所定位置に配置されたフォトマスクに照射する照明光学系と、該フォトマスクのステージと、該フォトマスクからのX線を受けて該フォトマスクに形成されたパターンを所定位置に配置されたウエハーに投影結像する投影結像光学系と、該ウエハのステージとを備えたX線投影露光装置において、前記フォトマスクに近接させてフィルターを設けたことを特徴とするX線投影露光装置。
IPC (4)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02
FI (4)：
H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 X
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
  • 露光用マスク
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-316126   Applicant：株式会社日立製作所
  • 特開平4-240716
  • 投影露光方法及び投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-159964   Applicant：株式会社日立製作所
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