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J-GLOBAL ID:200903087652125585

超純水製造用限外ろ過膜およびその予備洗浄方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 志賀 正武 (外6名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001170093
Publication number (International publication number):2002361052
Application date: Jun. 05, 2001
Publication date: Dec. 17, 2002
Summary:
【要約】【課題】 超純水製造装置を設置した後、短時間で高純度の超純水を得ることができる方法を提供することを目的とする。【解決手段】 超純水製造に使用される限外ろ過膜6を予備的に洗浄する方法であって、限外ろ過膜6を酸剤で洗浄する酸洗浄工程と、この工程で洗浄した限外ろ過膜6を超純水で洗浄する超純水洗浄工程とを実施する。
Claim (excerpt):
超純水製造に使用される限外ろ過膜を、超純水製造に先だって予備的に洗浄する方法であって、限外ろ過膜を酸剤で洗浄する酸洗浄工程と、この工程で洗浄した限外ろ過膜を超純水で洗浄する超純水洗浄工程とを有することを特徴とする超純水製造用限外ろ過膜の予備洗浄方法。
IPC (4):
B01D 65/02 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44
FI (4):
B01D 65/02 ,  B01D 61/14 500 ,  B01D 65/06 ,  C02F 1/44 J
F-Term (24):
4D006GA06 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA71 ,  4D006KC02 ,  4D006KC13 ,  4D006KC16 ,  4D006KD11 ,  4D006KD12 ,  4D006KD13 ,  4D006KD14 ,  4D006KD15 ,  4D006KD16 ,  4D006KD22 ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA04 ,  4D006MC11 ,  4D006MC22 ,  4D006MC33 ,  4D006MC62 ,  4D006NA61 ,  4D006PB06 ,  4D006PC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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