Pat
J-GLOBAL ID：200903087660165502
投影露光装置
Inventor：
,
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996229839
Publication number (International publication number)：1998074680
Application date： Aug. 30, 1996
Publication date： Mar. 17, 1998
Summary：
【要約】【課題】 ライトガイドがウエハステージの駆動精度に与えていた影響を除去する。【解決手段】 基板ステージと別設された光源からの光を基板ステージに向けて照射する第1光学系と、この第1光学系から照射された光を入射するように基板ステージに設けられ、入射した光を基板ステージ上の所定パターン領域に導くための第2光学系とを備え、第1光学系と第2光学系とは機械的に分離しており、少なくとも投影光学系の視野内に所定パターン領域が存在するような基板ステージの位置において、第1光学系と第2光学系とが光学的に接続可能である構成とした。
Claim (excerpt)：
パターンが形成されたマスクを照明する照明系と、該パターン像を感応基板上に投影する投影光学系と、該感応基板を前記投影光学系の結像面に沿ったXY方向に2次元移動させるとともに、該結像面と垂直なZ方向に移動させる基板ステージとを備えた投影露光装置において、前記基板ステージと別設された光源からの光を前記基板ステージに向けて照射する第1光学系と、前記第1光学系から照射された光を入射するように前記基板ステージに設けられ、該入射した光を前記基板ステージ上の所定パターン領域に導くための第2光学系とを備え、前記第1光学系と前記第2光学系とは機械的に分離しており、少なくとも前記投影光学系の視野内に前記所定パターン領域が存在するような前記基板ステージの位置において、前記第1光学系と前記第2光学系とが光学的に接続可能であることを特徴とする投影露光装置。
FI (2)：
H01L 21/30 525 R
, H01L 21/30 522 B
