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J-GLOBAL ID：200903087671355940

回折光学素子の製造方法、回折光学素子の製造方法によって製造したことを特徴とする回折光学素子製造用金型、回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、光学機器、露光装置、デバイス製造方法、デバイス

Inventor：
小楠 誠

About 小楠 誠

, 
岩崎 裕一

About 岩崎 裕一


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000389978
Publication number (International publication number)：2002189112
Application date： Dec. 22, 2000
Publication date： Jul. 05, 2002
Summary：
【要約】【課題】高精度な回折光学素子を形成することができ、短時間かつ低価格で安定して製造可能な回折光学素子の製造方法、回折光学素子の製造方法によって製造したことを特徴とする回折光学素子製造用金型、回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系等を提供する。【解決手段】マスクパターンを被加工物に転写して回折光学素子を形成する回折光学素子の製造方法において、前記回折光学素子の垂直部分の形状を、第一のマスクを用いて形成すると共に、前記回折光学素子の斜面部分の形状を、前記第一のマスクで規定された加工領域内に第二のマスクを用いて形成する。
Claim (excerpt)：
基板上にブレーズド形状のレジストマスクを形成し、該レジストマスクを用いて前記基板をエッチングすることにより前記基板に前記ブレーズド形状を転写する段階を有する回折光学素子の製造方法であって、前記エッチングを行なう前に、前記レジストマスクの前記ブレーズド形状のうちエッジ部に発生したテーパ形状が前記基板に転写されるのを防止する手段を形成する段階を有することを特徴とする回折光学素子の製造方法。
IPC (4)：
G02B 5/18 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G02B 5/18 ,  G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 501 ,  H01L 21/30 502 P
F-Term (16)：
2H049AA03 ,  2H049AA04 ,  2H049AA07 ,  2H049AA08 ,  2H049AA13 ,  2H049AA37 ,  2H049AA39 ,  2H049AA41 ,  2H049AA44 ,  2H049AA53 ,  2H049AA55 ,  2H049AA63 ,  2H095BA12 ,  2H095BC05 ,  2H097AA12 ,  2H097LA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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