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J-GLOBAL ID：200903087673516711

薄膜EL素子及びその製造方法、並びにそのために使用するスパッタ用ターゲット

Inventor： 鳥越 薫
Applicant, Patent owner： 富士ゼロックス株式会社
Agent (1)： 中村 稔 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993266859
Publication number (International publication number)：1995122365
Application date： Oct. 26, 1993
Publication date： May. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 改良された発光層を有する高輝度の薄膜EL素子の提供等。【構成】 基板上に、第1の電極層と、第1の絶縁層と発光層と、第2の絶縁層と第2の電極層とが、この順序で積層されて、第1と第2の電極層の間に電圧を印加することによってEL発光を行う薄膜EL素子であって、前述の発光層が、一種類以上の有機金属化合物を含むペースト組成物を印刷あるいは塗布する工程と、これを焼成、熱分解する工程と、によって作製される。

Claim (excerpt)：

基板上に、第1の電極層と、第1の絶縁層と発光層と、第2の絶縁層と第2の電極層とが、この順序で積層されて、前記第1と第2の電極層の間に電圧を印加することによってEL発光を行う薄膜EL素子の製造方法において、前記発光層が、一種類以上の有機金属化合物を含むペースト組成物を印刷あるいは塗布し、これを焼成、熱分解させることにより作製されることを特徴とする薄膜EL素子の製造方法。

IPC (3)：

H05B 33/10 ,  H01L 33/00 ,  H05B 33/14

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平4-133287
  
• 特開昭62-243285
  
• 特開昭59-078491