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J-GLOBAL ID：200903087686764021

試料面の高さ位置調整方法

Inventor： 小川 力 ,  田畑 光雄
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (7)： 鈴江 武彦 ,  村松 貞男 ,  坪井 淳 ,  橋本 良郎 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  河井 将次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002285541
Publication number (International publication number)：2004125411
Application date： Sep. 30, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：

【課題】半導体製造用フォトマスクのパターン検査装置において、高さ測定光のビームがマスク上に載置されたペリクル枠に遮られることによりマスク高さ信号が異常となる場合でも、マスク位置変動を最小限に抑える。【解決手段】ペリクル付のマスク13に検査光を照射してその透過光を検査し、マスク13上のパターンを検査するパターン検査装置に使用され、該装置によるパターン検査時にピエゾ素子33の駆動によりマスク13の高さ位置を調整する方法であって、検査光とは異なる高さ測定光をマスク13上に照射し、その反射光の光軸変動量と光量を2分割センサ34で検出し、光量がしきい値以上のときは光軸変動量から算出されるマスク13の高さ位置が結像光学系14の焦点深度内となるようにピエゾ素子33を駆動し、光量がしきい値より少ないときはピエゾ素子33の駆動を停止する。【選択図】 図3

Claim (excerpt)：

ペリクル付の被検査試料の一主面に検査光を照射してその透過光又は反射光を検査し、試料面上のパターンを検査するパターン検査装置に使用され、該装置によるパターン検査時に試料面の高さ位置を調整する方法であって、 前記検査光とは異なる高さ測定光を前記試料面上に照射し、その反射光の光軸変動量と光量を光電検出器で検出し、検出された光量が予め定められたしきい値以上のときは前記検出された光軸変動量から試料面の高さ位置を算出し、該算出値が許容範囲内となるように高さ方向の移動機構により試料面の高さ位置を制御し、前記検出された光量が前記しきい値より少ないときは前記高さ方向の移動機構による試料面の高さ位置の制御を停止して該移動機構による制御位置を所定の基準位置に固定することを特徴とする試料面の高さ位置調整方法。

IPC (3)：

G01B11/02 ,  G03F1/08 ,  G03F1/14

FI (3)：

G01B11/02 Z ,  G03F1/08 S ,  G03F1/14 J

F-Term (44)：

2F065AA24 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB22 ,  2F065BB25 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065DD00 ,  2F065FF01 ,  2F065FF10 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ08 ,  2F065JJ18 ,  2F065JJ23 ,  2F065KK01 ,  2F065LL04 ,  2F065LL12 ,  2F065MM03 ,  2F065PP11 ,  2F065PP12 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR06 ,  2F065TT02 ,  2F065TT08 ,  2F065UU02 ,  2F065UU04 ,  2G051AA56 ,  2G051AB07 ,  2G051CA02 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051DA07 ,  2H095BA01 ,  2H095BC31 ,  2H095BD03 ,  2H095BD15 ,  2H095BD19 ,  2H095BD20 ,  2H095BD24