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J-GLOBAL ID:200903087693035469
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
吉武 賢次
, 橘谷 英俊
, 佐藤 泰和
, 吉元 弘
, 川崎 康
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004295997
Publication number (International publication number):2006107674
Application date: Oct. 08, 2004
Publication date: Apr. 20, 2006
Summary:
【課題】 出力と分解能を可及的に高くすることを可能にする。【解決手段】 媒体走行面に対して膜面が垂直に配置された第1の磁性層8と、第1の磁性層の膜面に接するように設けられ絶縁体を含む中間層10と、中間層の第1の磁性層とは反対側の膜面に接するように設けられた絶縁層13と、絶縁層のギャップ層と反対側の膜面に接するように設けられた第2の磁性層14と、中間層の絶縁体内に設けられ第1の磁性層と電気的に接続する第1のコンタクト12と、絶縁層内に設けられ前記第1のコンタクトと前記第2の磁性層とを電気的に接続し、第1のコンタクトよりも径が大きな第2のコンタクト14aと、を備えている。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
媒体走行面に対して膜面が垂直に配置された第1の磁性層と、
前記第1の磁性層の前記膜面に接するように設けられ絶縁体を含む中間層と、
前記中間層の前記第1の磁性層とは反対側の膜面に接するように設けられた絶縁層と、
前記絶縁層の前記中間層と反対側の膜面に接するように設けられた第2の磁性層と、
前記中間層の前記絶縁体内に設けられ前記第1の磁性層と電気的に接続する第1のコンタクトと、
前記絶縁層内に設けられ前記第1のコンタクトと前記第2の磁性層とを電気的に接続し、前記第1のコンタクトよりも径が大きな第2のコンタクトと、
を備えたことを特徴とする磁気ヘッド。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (7):
5D034BA03
, 5D034BA06
, 5D034BA12
, 5D034BA13
, 5D034BB12
, 5D034CA06
, 5D034DA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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案内装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-141735
Applicant:アイシン・エィ・ダブリュ株式会社
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磁気抵抗効果素子及びその製造方法、磁気ヘッド並びに磁気再生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-316799
Applicant:株式会社東芝
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一次元貫通気孔を持つセラミック膜とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-354930
Applicant:ファインセラミックス技術研究組合, 工業技術院長
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磁気記録媒体、及び磁気記録装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-316322
Applicant:日立マクセル株式会社
-
磁気抵抗効果素子及びその製造方法、磁気再生素子並びに磁気メモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-269783
Applicant:株式会社東芝
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磁気検出素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-066594
Applicant:アルプス電気株式会社
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Cited by examiner (3)
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