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J-GLOBAL ID：200903087704166633

プラズマリアクター用の改良型固定フォーカスリング

Inventor： ユー-ジア スー
Applicant, Patent owner： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
Agent (1)： 長谷川 芳樹 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995156140
Publication number (International publication number)：1996102461
Application date： Jun. 22, 1995
Publication date： Apr. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ウエハー汚染をさらに低減するフォーカスリングを提供すること。【構成】 プラズマリアクター内で用いる固定フォーカスリング25は、第1のスロット開口部22と第2のスロット開口部23とを含んでおり、この2つの開口部が協働してウエハー全面にバランスのとれたガスフロー分布を提供する。その結果、処理の均一性がウエハー全面にわたって達成され、その一方で、ソリッドな可動フォーカスリングの反応レベルと等しい、高反応レベルを提供するよう開口部の実際寸法を最小にしている。また、チャンバー容積を減じ、チャンバー内のガスフローを安定化させる厚いフォーカスリング90は、均一なガスフロー分布を提供する円形、偏心形状、もしくはバッフル形状又はこれらの組合せを有している。

Claim (excerpt)：

ウエハーの周縁を囲む、半導体ウエハーを処理するためのプラズマリアクター用フォーカスリングであって、上部リング部分と、下部リング部分と、少なくとも1つのリンクとを備え、前記上部リング部分、下部リング部分及び前記リンクが、ウエハー移送ブレード及びウエハーを受け入れるよう適合されている第1のスロット開口部と、第2のスロット開口部とを画成するように前記リンクは前記上部リング部分及び前記下部リング部分を結合させており、前記第1のスロット開口部及び前記第2のスロット開口部が、協働してウエハー表面を横切って処理ガスを排気するよう適合されており、もって汚染粒子がウエハー縁部から掃出されると共にウエハー表面全体にわたってガスフロー分布のバランスを保つようにしているフォーカスリング。

IPC (4)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/70 ,  H05H 1/46