Pat
J-GLOBAL ID：200903087720483444
レーザ照射装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991194270
Publication number (International publication number)：1993031354
Application date： Aug. 02, 1991
Publication date： Feb. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 最適なパルス幅をもつパルスレーザビームの照射によってシリコン薄膜の結晶化ができるレーザ照射装置を提供する。【構成】 レーザ発振器LSから出たパルスレーザは光軸A-Bに沿って進む。ビーム分割部分透過ミラーPMによって経路B-Eを通るものとB-C-D-Eを通るものにレーザビームは分割される。複数の経路を経たレーザビームはビーム集光用部分透過ミラーにより同じ光軸に集められる。経路B-Eと経路B-C-D-Eの道のりが異なるため、ビーム分割用部分透過ミラーによって分割された複数のビームは、異なる時間に試料SAに到達する。これにより効果的にシリコン薄膜が結晶化される。
Claim (excerpt)：
レーザビームをパルス発振するレーザ光源部と、このレーザビームのエネルギーを分割するビーム分割用部分透過ミラーと、分割されたレーザビームの光路の長さを調節する鏡と、この分割されたビームを再び同じ光路に集めるビーム集光用部分透過ミラーを備えることを特徴とするレーザ照射装置。
IPC (5)：
B01J 19/12
, C23C 16/48
, H01L 21/324
, H01S 3/00
, H01S 3/101
