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J-GLOBAL ID：200903087734636898

光デバイス、光デバイスの製造方法、光デバイス用金型、及び、光デバイス用金型の製造方法

Inventor：
吉野 光城

About 吉野 光城

, 
渡辺 義雄

About 渡辺 義雄


Applicant, Patent owner：
アピックヤマダ株式会社

About アピックヤマダ株式会社


Agent (1)： 藤元 亮輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008089739
Publication number (International publication number)：2009241369
Application date： Mar. 31, 2008
Publication date： Oct. 22, 2009
Summary：
【課題】高性能な光デバイスを製造するための光デバイス用金型の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、光デバイス用金型の製造方法であって、キャビティブロックに光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部を形成する第1のステップと、前記キャビティブロックにレーザを照射して、前記レンズ成形部に複数の凹部を形成する第2のステップとを有する。前記第2のステップは、前記凹部が形成される位置に前記レーザを複数回照射させて該凹部を形成する。また、第2のステップは、前記複数の凹部の位置に応じて、前記レーザの照射方向を変化させる。【選択図】図10
Claim (excerpt)：
光デバイス用金型の製造方法であって、 ワークに光デバイスのレンズ部を成形するためのレンズ成形部を形成する第1のステップと、 前記ワークにレーザを照射して、前記レンズ成形部に複数の凹部を形成する第2のステップと、を有することを特徴とする光デバイス用金型の製造方法。
IPC (5)：
B29C 33/38 ,  G02B 3/00 ,  G02B 6/00 ,  H01L 33/00 ,  H01L 31/02
FI (5)：
B29C33/38 ,  G02B3/00 Z ,  G02B6/00 331 ,  H01L33/00 N ,  H01L31/02 B
F-Term (26)：
2H038AA55 ,  2H038BA06 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH75 ,  4F202AJ02 ,  4F202AR07 ,  4F202CA01 ,  4F202CA09 ,  4F202CA30 ,  4F202CB29 ,  4F202CD23 ,  4F202CD30 ,  4F202CK11 ,  5F041AA07 ,  5F041AA42 ,  5F041DA12 ,  5F041DA16 ,  5F041DA43 ,  5F041DA56 ,  5F041DA59 ,  5F041DB09 ,  5F088BA18 ,  5F088JA02 ,  5F088JA06 ,  5F088JA20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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