Pat
J-GLOBAL ID:200903087775509108
位置検出方法及び装置、並びに前記位置検出方法を用いた露光方法及び装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
大森 聡
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000073475
Publication number (International publication number):2001267211
Application date: Mar. 16, 2000
Publication date: Sep. 28, 2001
Summary:
【要約】【課題】 回折格子状マークの非対称性による位置検出誤差を低減し、被検物の位置合わせを高精度に行う。【解決手段】 互いに周波数が異なる2光束L03及びL30をウエハ上に形成された回折格子状マークWMに対して所定の入射角で入射させ、回折格子マークWMから発生する±3次回折光を光電検出器33により検出する。次に、2光束L03及びL30の入射角とは異なる所定の入射角で、互いに周波数が異なる2光束L04及びL40を回折格子状マークWMに対して入射させ、回折格子状マークから発生する±4次回折光を光電検出器33により検出する。±3次回折光を検出して得られるビート信号と±4次回折光を検出して得られるビート信号とに基づいて、回折格子マークWMの断面形状の非対称性による検出誤差を補正し、ウエハの位置合わせを行う。
Claim (excerpt):
物体上に形成されたマークの位置を計測する位置検出方法であって、所定波長を有する第1の2光束を、前記マークに対して、異なる2方向から第1の入射角で入射せしめ、前記所定波長を有し、前記第1の2光束とは異なる第2の2光束を、前記マークに対して、異なる2方向から前記第1の入射角とは異なる第2の入射角で入射せしめ、前記複数の光束の入射により前記マークから発生した回折ビームに基づいて、前記マークの位置情報を求めることを特徴とする位置検出方法。
IPC (5):
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G02B 7/28
, G03F 7/20 504
, G03F 9/00
FI (6):
G01B 11/00 G
, G03F 7/20 504
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 F
, G02B 7/11 M
, H01L 21/30 507 R
F-Term (48):
2F065AA03
, 2F065AA14
, 2F065BB02
, 2F065BB28
, 2F065CC20
, 2F065DD00
, 2F065DD02
, 2F065FF48
, 2F065FF49
, 2F065FF52
, 2F065GG02
, 2F065GG03
, 2F065GG04
, 2F065GG24
, 2F065HH12
, 2F065JJ01
, 2F065JJ05
, 2F065JJ18
, 2F065LL00
, 2F065LL20
, 2F065LL46
, 2F065LL57
, 2F065LL59
, 2F065NN08
, 2F065PP12
, 2F065UU01
, 2F065UU07
, 2H051AA10
, 2H051BA53
, 2H051BA72
, 2H051CE12
, 2H051CE14
, 2H097CA16
, 2H097GB00
, 2H097KA20
, 2H097LA10
, 2H097LA12
, 5F046AA20
, 5F046BA02
, 5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046DA12
, 5F046DB05
, 5F046EA07
, 5F046EA09
, 5F046FA06
, 5F046FA09
, 5F046FC04
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