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J-GLOBAL ID：200903087780645397

ポジ型感光性レジスト組成物及びそれを用いた銅含有層のパターン形成方法

Inventor： バートン ジェッセ カーペンター ジュニア ,  マイケル ジョージ マクマスター ,  ジョゼフ ラトッレ ,  ロガン ロイド シンプソン
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 合田 潔 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994031351
Publication number (International publication number)：1994317907
Application date： Mar. 01, 1994
Publication date： Nov. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】 銅含有基体上の露光領域において現像されえないレジストを形成することがない感光性レジスト組成物及びその用途を提供する。【構成】 酸触媒存在下で反応する基を有するフィルム形成反応性ポリマー、例えば、t-ブチルメタクリレート/メチルメタクリレート/メタクリル酸のターポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、クエン酸の如き多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とする組成物。

Claim (excerpt)：

酸触媒作用により反応する基を含むフィルム形成反応性ポリマーと、フィルム形成反応性ポリマーの酸触媒作用を生成するための、放射光に露光されることによって酸を発生するヨードニウム開始剤又はトリフル酸を発生する非イオン性フォトアシッド発生剤と、多官能基有機カルボン酸と、を含有することを特徴とするポジ型感光性レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-309358
  
• 特開平2-018564
  
• 特開平4-314877
  
• 特開昭52-040125