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J-GLOBAL ID：200903087834175073

光触媒構造体及びその製造方法

Inventor： 藤嶋 昭 ,  橋本 和仁 ,  斎藤 一徳 ,  吉本 哲夫 ,  深山 重道 ,  斉藤 徳良
Applicant, Patent owner： 財団法人神奈川科学技術アカデミー ,  日本曹達株式会社
Agent (1)： 東海 裕作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995248897
Publication number (International publication number)：1997075748
Application date： Sep. 01, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】【目的】 高い光触媒活性を有する新規な耐熱性の光触媒構造体を提供するものである。【構成】 耐熱性を有する基体上に酸化リンを含む酸化チタンを主成分とする光触媒活性を有する薄膜を形成して得られる光触媒構造体であり、酸化チタン中の酸化リンの含有量が酸化チタンに対して0.1〜15重量%、酸化チタンの膜厚が0.02〜5μmである光触媒構造体である。

Claim (excerpt)：

耐熱性基体上に、酸化リンを含む酸化チタンを主成分とする光触媒活性を有する薄膜を形成してなる光触媒構造体

IPC (3)：

B01J 35/02 ZAB ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 27/18 ZAB

FI (3)：

B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 27/18 ZAB M ,  B01D 53/36 ZAB G

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光触媒およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-339451   Applicant：石原産業株式会社