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J-GLOBAL ID：200903087834635562

プラズマを発生させるための装置

Inventor： ミヒャエル リーア
Applicant, Patent owner： ライボルト システムズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
Agent (1)： 矢野 敏雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999148356
Publication number (International publication number)：1999354297
Application date： May. 27, 1999
Publication date： Dec. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】 マイクロ波における交番磁界の発生に基づく、析出された層における変動を回避する。【解決手段】 1つのロッド状の導体4が、1つの絶縁管5の内部で真空室3を貫いて案内されており、該絶縁管5の内径が、導体4の直径よりも大きく形成されており、絶縁管5が少なくとも一方の端部で、真空室3の壁6に保持されていて、該壁に対して絶縁管5の外面がシールされており、導体4が少なくとも一方の端部で、交番電磁界を発生させるための第1の源8に接続されており、ロッド状の導体4の、真空室3内に突入して延びる部分の範囲が、螺旋体2として成形されており、ただし該部分の巻き線長さLが、波長λ<SB>0</SB>=10 ゚<α<15 ゚においてL=C/cos(α)である。

Claim (excerpt)：

交番電磁界を用いて真空室(3)内にプラズマを発生させるための装置において、1つのロッド状の導体(4)が、絶縁性の材料から成る1つの絶縁管(5)の内部で真空室(3)を貫いて案内されており、該絶縁管(5)の内径が、導体(4)の直径よりも大きく形成されており、絶縁管(5)が少なくとも一方の端部で、真空室(3)の壁(6,7)に保持されていて、該壁(6,7)に対して絶縁管(5)の外面がシールされており、導体(4)が少なくとも一方の端部で、交番電磁界を発生させるための第1の源(8;9)に接続されており、ロッド状の導体(4)の、真空室(3)内に突入して延びる部分の範囲が、螺旋体(2)として成形されており、ただし該部分の巻き線長さ(L)が、波長λ<SB>0</SB>=10 ゚<α<15 ゚においてL=C/cos(α)であることを特徴とする、プラズマを発生させるための装置。

FI (2)：

H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-032703
  
• 特開平4-136179
  
• 特開昭63-043299