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J-GLOBAL ID：200903087853176420

近接場光プローブの作製方法と近接場光プローブの作製装置、及び近接場光プローブ、近接場光学顕微鏡、近接場光微細加工装置、近接場光記録再生装置

Inventor： 黒田 亮 ,  山口 貴子
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 長尾 達也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000358406
Publication number (International publication number)：2002162330
Application date： Nov. 24, 2000
Publication date： Jun. 07, 2002
Summary：

【要約】【課題】プローブにおける探針先端をこすることなく微小開口を形成することができ、高い分解能を有する近接場光プローブの作製方法と近接場光プローブの作製装置、及び近接場光プローブ、近接場光学顕微鏡、近接場光微細加工装置、近接場光記録再生装置を提供する。【解決手段】光学的微小開口を有する近接場光プローブを形成するため、曲げられた先端部分と根元部分のプローブ表面に遮光材料を成膜する工程を有し、該遮光材料を成膜する工程は、該先端部分に対する第1の成膜工程と該根元部分に対する第2の成膜工程との二段階の工程に分けられ、これら各成膜工程での成膜に際し、それぞれの異なる軸回りにプローブを回転させながら、その回転軸と垂直な方向からプローブ表面に遮光材料による成膜を行い、近接場光プローブを形成する。

Claim (excerpt)：

尖鋭化された探針の先端に光学的微小開口を備え、該尖鋭化された探針を有する先端部分が根元部分に対して曲げられて構成された近接場光プローブの作製方法において、前記光学的微小開口を有する近接場光プローブを形成するため、前記曲げられた先端部分と前記根元部分のプローブ表面に遮光材料を成膜する工程を有し、該遮光材料を成膜する工程は、該先端部分に対する第1の成膜工程と該根元部分に対する第2の成膜工程との二段階の工程に分けられ、これら各成膜工程での成膜に際し、それぞれの異なる軸回りにプローブを回転させながら、その回転軸と垂直な方向からプローブ表面に遮光材料による成膜を行い、光学的微小開口を有する近接場光プローブを形成することを特徴とする近接場光プローブの作製方法。

IPC (6)：

G01N 13/14 ,  B82B 3/00 ,  G11B 7/004 ,  G11B 7/135 ,  G12B 21/06 ,  G01B 11/24

FI (6)：

G01N 13/14 B ,  B82B 3/00 ,  G11B 7/004 Z ,  G11B 7/135 A ,  G12B 1/00 601 C ,  G01B 11/24 A

F-Term (25)：

2F065AA07 ,  2F065AA52 ,  2F065AA60 ,  2F065DD03 ,  2F065FF00 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ07 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ17 ,  2F065JJ23 ,  2F065LL02 ,  2F065LL57 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065SS13 ,  2F065UU01 ,  5D090CC01 ,  5D090CC04 ,  5D090FF11 ,  5D090LL01 ,  5D119AA38