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J-GLOBAL ID：200903087884573126

高空間分解能CsI蛍光膜の製造方法

Inventor： 山内 泰 ,  岸本 直樹
Applicant, Patent owner： 科学技術庁金属材料技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991315163
Publication number (International publication number)：1994036687
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：

【要約】【構成】 試料基板を冷却して基板温度を室温よりも低く保ちながら、CsIを加熱蒸着する。【効果】 この発明により、以上詳しく説明した通り、サブミクロンの柱状微結晶組織を持つCsI蛍光膜を製造することができる。柱状で光が横より縦に伝播しやすいため、X線像を分解能を劣化させずに可視光像に変換することができ、X線顕微断層撮影やX線顕微鏡の性能を向上させる。この発明により製造されたCsI蛍光膜は、X線顕微断層撮影装置やX線顕微鏡に用いられ、高分解能の非破壊検査装置や顕微鏡装置として新たな産業を形成する。

Claim (excerpt)：

試料基板を冷却して基板温度を室温よりも低く保ちながら、CsIを加熱蒸着することを特徴とする高空間分解能CsI蛍光膜の製造方法。

IPC (4)：

H01J 9/233 ,  C23C 14/06 ,  H01J 29/38 ,  H01J 31/50