情報記録原盤製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小池晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002097141
Publication number (International publication number)：2003296975
Application date： Mar. 29, 2002
Publication date： Oct. 17, 2003
Summary：

【要約】【課題】一定幅でかつ、深度の異なる記録マークが形成された記録媒体を製造する。【解決手段】記録原盤上に所定の複数の異なる波長に反応するフォトレジスト膜を複数層形成する第1の工程と、上記フォトレジスト膜に上記所定の複数の異なる波長を有するレーザ光を照射し、一定幅でかつ、記録する情報に応じた深度の露光部を形成する第2の工程と、上記露光部を現像し、所定の記録パターンを形成する第3の工程とを少なくとも有し、記録する情報に応じた深度の記録パターンを有する情報記録原盤を製造することで実現する。

Claim (excerpt)：

記録原盤上に所定の複数の異なる波長に反応するフォトレジスト膜を複数層形成する第1の工程と、上記フォトレジスト膜に上記所定の複数の異なる波長を有するレーザ光を照射し、一定幅でかつ、記録する情報に応じた深度の露光部を形成する第2の工程と、上記露光部を現像し、所定の記録パターンを形成する第3の工程とを少なくとも有し、記録する情報に応じた深度の記録パターンを有する情報記録原盤を製造することを特徴とする情報記録原盤製造方法。

IPC (2)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/20 505

FI (2)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/20 505

F-Term (12)：

2H097AA03 , 2H097AA13 , 2H097AB07 , 2H097BB02 , 2H097BB10 , 2H097CA17 , 2H097LA20 , 5D121BA03 , 5D121BB02 , 5D121BB22 , 5D121BB28 , 5D121BB40

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

光情報記録媒体、光情報記録媒体製造方法及び光情報記録媒体原盤記録装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-039716 Applicant：日本コロムビア株式会社
光ディスク原盤の作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-295620 Applicant：松下電器産業株式会社
特開昭63-056830

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