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J-GLOBAL ID:200903087892064630
蒸着フィルム積層体の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992268447
Publication number (International publication number):1994114966
Application date: Oct. 07, 1992
Publication date: Apr. 26, 1994
Summary:
【要約】【目的】エキストルーションラミネート法によりポリエチレン樹脂層を積層した後でも、ガス遮断性の劣化のない金属酸化物の蒸着膜を有する蒸着フィルム積層体の製造方法を提供する。【構成】透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に厚さ300〜3000Åの酸化マグネシウム、酸化珪素、酸化アルミニウム等の金属酸化物の薄膜を設け、次いで厚さ10〜20μmのポリエチレン樹脂層をエキストルーションラミネート法にて設ける。ポリエチレン樹脂層は、エキストルーションラミネート法にて設けられているものの、10〜20μmと薄いために、樹脂成膜時における張力、熱収縮等により蒸着膜に歪みが生じたとしても微小なものであり、ガス遮断性の劣化には至らない。
Claim (excerpt):
透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に厚さ300〜3000Åの金属酸化物の薄膜を設け、次いで厚さ10〜20μmのポリエチレン樹脂層をエキストルーションラミネート法にて設けることを特徴する蒸着フィルム積層体の製造方法。
IPC (7):
B29D 9/00
, B29C 47/06
, B32B 7/02 103
, B32B 9/04
, B32B 15/08
, B29K 23:00
, B29L 7:00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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