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J-GLOBAL ID：200903087911199916
フォトリソグラフィにおける現像装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
岡田 和秀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992235371
Publication number (International publication number)：1994061137
Application date： Aug. 10, 1992
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：
【要約】【目的】 表面にレジストが塗布された露光済みの半導体や液晶などの基板上に現像液を散布し、所定の回路パターンを形成するフォトリソグラフィにおける現像装置において、現像液の散布むらや現像液が処理前の基板にかかることによる回路パターンの現像不良を防止し、製品の品質を向上させると共に、生産時の歩留まりを向上させる。【構成】 前室a寄りの現像処理室bの上部に、この現像処理室bの幅方向に亙る流出口を有する入口シャワー4を、この流出口を下向きに且つ基板搬送方向に傾斜させて設けた。
Claim (excerpt)：
前室、現像処理室、液切室、水洗室、乾燥室を一連に設けて成り、フォトリソグラフィにより露光した基板に現像液をかけ、所望の回路を形成する現像装置において、上記現像処理室の前室側上部に現像液を該現像処理室の幅方向に亙って帯状に流下させる入口シャワーを設けたことを特徴とするフォトリソグラフィにおける現像装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G02F 1/1343
, G03F 7/30 501
