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J-GLOBAL ID：200903087926069130

レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor： 角野 元重 ,  勝山 亜希子
Applicant, Patent owner： 和光純薬工業株式会社 ,  松下電器産業株式会社
Agent (1)： 平井 順二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998346601
Publication number (International publication number)：1999242337
Application date： Nov. 19, 1998
Publication date： Sep. 07, 1999
Summary：

【要約】【課題】 220nm以下の遠紫外光、特にArFエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、エッチング耐性に優れたポリマーを用いた高感度で高解像性能を有する実用的なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】 一般式[1a]【化1】(式中、Xは置換基を有していても良い多環式炭化水素基を表し、Zはスペーサー又は結合手を表し、Rは保護された水酸基を1又は2個有する置換アルキル基又は置換アルケニル基を表す。)で示されるモノマー単位を構成単位として含んで成るポリマーと、露光により酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤とを含んで成るレジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法。

Claim (excerpt)：

一般式[1a]【化1】(式中、Xは置換基を有していても良い多環式炭化水素基を表し、Zはスペーサー又は結合手を表し、Rは保護された水酸基を1又は2個有する置換アルキル基又は置換アルケニル基を表す。)で示されるモノマー単位を構成単位として含んで成るポリマーと、露光により酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤とを含んで成るレジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/16 ,  C08F 32/00

FI (4)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/16 ,  C08F 32/00 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 酸不安定ペンダント基を持つ多環式ポリマーからなるフォトレジスト組成物
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平9-532033   Applicant：ザビー.エフ.グッドリッチカンパニー
• 化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびそのための共重合体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-278570   Applicant：住友化学工業株式会社
• 感光膜共重合体を利用した感光膜及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-353131   Applicant：現代電子産業株式会社
• 化学増幅型のレジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-094644   Applicant：三星電子株式会社
• ポジ型放射線レジストとレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-099967   Applicant：富士通株式会社