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J-GLOBAL ID：200903087945261645
レーザビーム走査光学系
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991301805
Publication number (International publication number)：1993142495
Application date： Nov. 18, 1991
Publication date： Jun. 11, 1993
Summary：
【要約】【目的】 ポリゴンミラーの面の出入りによって画像上に周期的に発生するピッチムラを抑えることを目的とする。【構成】 斜め方向からポリゴンミラー3に入射されたレーザビーム20a,20bは、ポリゴンミラー3で偏向された後、結像光学系Lを介して感光体ドラム6上に集光される。ポリゴンミラー3の面の出入りに起因するピッチムラを抑えるために、光軸に対してレーザビーム20a,20bが偏向器に入射する入射角θ、結像光学系の副走査方向の倍率β、受光面を走査するレーザビームの副走査方向の走査線間隔Piで表わされる条件式を満足させる。
Claim (excerpt)：
レーザビーム発生源と、このレーザビーム発生源から発生されたレーザビームを走査方向に偏向する偏向器と、前記走査方向と直交する方向について前記偏向器の偏向面とレーザビームで走査される受光面とが共役関係となるように設けられた結像光学系とを備え、レーザビームが光軸に対して所定の角度で前記偏向器の偏向面に入射されるレーザビーム走査光学系において、光軸に対してレーザビームが前記偏向器に入射する入射角をθ、前記結像光学系の前記走査方向と直交する方向の倍率をβ、受光面を走査するレーザビームの走査方向と直交する方向の走査線間隔をPiとすると、|β*tanθ|≦(5/3)*Piの関係を満足するレーザビーム走査光学系。
IPC (3)：
G02B 26/10 103
, B41J 2/44
, H04N 1/04 104
Cited by examiner (6)
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