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J-GLOBAL ID：200903087953162931

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 佐藤 和史 ,  新田 和行 ,  山崎 晃義 ,  坂井 与日 ,  中山 寿昌
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (1)： 服部 平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995191020
Publication number (International publication number)：1997022117
Application date： Jul. 05, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂成分、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)有機カルボン酸化合物を含むポジ型レジスト組成物において、(A)成分が(a)水酸基の10〜60モル%が一般式(1)(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2はメチル基又はエチル基であり、R3は炭素数1〜4の低級アルキル基である)で表わされる残基で置換された重量平均分子量8,000〜22,000のポリヒドロキシスチレンと(b)水酸基の10〜60モル%がtert-ブトキシカルボニルオキシ基で置換された重量平均分子量8,000〜22,000のポリヒドロキシスチレンとの混合物であるポジ型レジスト組成物。【効果】高感度であり、クオーターミクロン以下の高解像性を有し、かつ耐熱性等に優れたレジスト組成物を提供する。

Claim (excerpt)：

(A)酸の作用によりアルカリ水溶液に対する溶解性が増大する樹脂成分、(B)放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)有機カルボン酸化合物を含むポジ型レジスト組成物において、(A)成分が(a)水酸基の10〜60モル%が一般式化1【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基であり、R2はメチル基又はエチル基であり、R3は炭素数1〜4の低級アルキル基である)で表わされる残基で置換された重量平均分子量8,000〜22,000のポリヒドロキシスチレンと(b)水酸基の10〜60モル%がtert-ブトキシカルボニルオキシ基で置換された重量平均分子量8,000〜22,000のポリヒドロキシスチレンとの混合物であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08F 12/22 MJU ,  C08G 2/00 NAA ,  C08L 25/18 LEK ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F 7/039 501 ,  C08F 12/22 MJU ,  C08G 2/00 NAA ,  C08L 25/18 LEK ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/30 502 R