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J-GLOBAL ID：200903087957094140

グラファイト面状体の製造方法

Inventor： 松原 英一郎 ,  井上 孝夫 ,  池田 順治 ,  西木 直巳 ,  光明寺 大道
Applicant, Patent owner： 松原 英一郎 ,  松下電器産業株式会社
Agent (1)： 滝本 智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995048442
Publication number (International publication number)：1996244119
Application date： Mar. 08, 1995
Publication date： Sep. 24, 1996
Summary：

【要約】【目的】 所定の面形状に成形された高配向性を有するグラファイト面状体を精度良く製造できるようにする。【構成】 グラファイト面状体の製造方法は、所定の面形状に成形された高配向性を有するグラファイト面状体を製造する方法であって、第1高温炉1で厚さ1〜400μmの高分子フィルムを400〜2000°Cで熱処理して炭素質フィルム5を得、得られた炭素質フィルム5を少なくとも1枚以上重ねて成形型12,13に入れ、第2高温炉内のアルゴンガス雰囲気中で成形型12,13全体をカーボンヒータ14により2000°C〜3200°Cに昇温しつつ0.98MPa以上の圧力で成形し、昇温後に、炭素質フィルム5の端面にレーザ光を照射して、炭素質フィルム5を3200°C以上の温度に維持しつつ1.96MPa以上の圧力で成形する。

Claim (excerpt)：

所定の面形状に成形された高配向性を有するグラファイト面状体を製造する方法であって、1または複数枚の厚さ1〜400μmの高分子フィルムを400〜2000°Cで熱処理して炭素質フィルムを得る炭素質フィルム製造工程と、前記炭素質フィルム製造工程で得られた炭素質フィルムを少なくとも1枚以上重ねて成形型に入れる成形準備工程と、不活性雰囲気中で前記成形型内の炭素質フィルムの少なくとも一部を加熱することで前記炭素質フィルムを2200°C以上の温度に維持しつつ0.98MPa以上の圧力で成形する成形工程と、を含むグラファイト面状体の製造方法。

IPC (4)：

B29C 67/04 ,  C04B 35/52 ,  G21K 1/06 ,  B29K103:04

FI (3)：

B29C 67/04 ,  G21K 1/06 D ,  C04B 35/54 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-083208
  
• 低スパッタ黒鉛材料の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-271893   Applicant：日本原子力研究所
• 特開昭63-081300