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J-GLOBAL ID：200903087991639040
蛍光X線分析装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉本 修司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992328468
Publication number (International publication number)：1993346411
Application date： Nov. 13, 1992
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：
【要約】【目的】 微小部分の分析や、分析箇所を正確に設定することができる蛍光X線分析装置を提供する。【構成】 照射装置1はX線源2からの一次X線B1をモノクロメータ3で単色化し、この単色化した一次X線B1を、試料50の表面51に対向する方向から試料50に集光させて照射する。一次X線B1を受けた試料50からの蛍光X線B3は、X線検出器4で検出される。試料50とX線検出器4との間には、試料50からの蛍光X線B3を5°以下の取出角βで取り出して、X線検出器4に入射させる光学素子5が設けられている。
Claim (excerpt)：
一次X線を単色化して試料の表面に対向する方向から試料に照射する照射装置と、上記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出するX線検出器と、上記試料からの蛍光X線を5°以下の取出角で取り出して上記X線検出器に入射させる光学素子とを備えた蛍光X線分析装置。
Patent cited by the Patent：
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