支持体付きX線マスク材料および支持体付きX線マスク

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：中村静男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992016824
Publication number (International publication number)：1993217863
Application date： Jan. 31, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 X線マスク基板上に設けられたX線透過膜の平坦度の悪化を防ぎ、高精度のギャップ精度が得られる支持体付きX線マスク材料および支持体付きX線マスクを提供する。【構成】本発明の支持体付きX線マスク材料は、基板の第1の主表面に、少なくともX線透過膜が形成されており、前記基板の第2の主表面に、抜き穴を有する支持体が陽極接合された支持体付きX線マスク材料であって、前記基板が前記支持体の、抜き穴を画定する内周面部分またはその近傍と接触しないように、前記基板の第2の主表面に凹部を形成したことを特徴とする。本発明の支持体付きX線マスクは、基板の第1の主表面に、X線透過膜とX線吸収膜パターンが順次形成されており、前記基板の第2の主表面に、抜き穴を有する支持体が陽極接合された支持体付きX線マスクであって、前記基板が前記支持体の、抜き穴を画定する内周面部分またはその近傍と接触しないように、前記基板の第2の主表面に凹部を形成したことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板の第1の主表面に、少なくともX線透過膜が形成されており、前記基板の第2の主表面に、抜き穴を有する支持体が陽極接合されている支持体付きX線マスク材料であって、前記基板が前記支持体の、抜き穴を画定する内周面部分またはその近傍と接触しないように、前記基板の第2の主表面に凹部を形成したことを特徴とする支持体付きX線マスク材料。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 1/16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開昭60-186840
特開平2-119118
特開平4-280840

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