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J-GLOBAL ID:200903088046876296

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 頓宮 孝一 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993031771
Publication number (International publication number):1994028626
Application date: Feb. 22, 1993
Publication date: Feb. 04, 1994
Summary:
【要約】【目的】 磁極端が正確に位置合せされ、磁極端の幅および厚みが厳密に制御された薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供すること。【構成】 薄膜磁気ヘッドは、後部ギャップ領域(26)からエア・ベアリング表面(ABS)等の検出縁(24)に延びる第1の磁気ヨーク層(12)と、後部ギャップ領域で第1の磁気ヨーク層に接触し、第1の磁気ヨーク層と整列するが第1の磁気ヨーク層から離れた位置でABSに延びる、第2の磁気ヨーク層(22)とを備える。単一のフォトリソグラフィによって形成した幾何形状を有し、第1の磁極端層(16)とギャップ形成層(18)と第2の磁極端層(20)とを有する磁極端構造(15)が、ABSで第1の磁気ヨーク層と第2の磁気ヨーク層の間に位置し、ABSで第1の磁極端層が第1の磁気ヨーク層に接し、第2の磁極端層が第2の磁気ヨーク層に接する。
Claim (excerpt):
後部ギャップ領域から検出縁まで延びる第1の磁気ヨーク層と、上記後部ギャップ領域において上記第1の磁気ヨーク層に接し、上記第1の磁気ヨーク層と整列するが上記第1磁気ヨーク層から離れた位置で上記検出縁まで延びる第2の磁気ヨーク層と、それぞれの幅が実質的に等しい第1の磁極端層とギャップ形成層と第2の磁極端層から成る磁極端構造とを備え、上記磁極端構造は、上記第1の磁気ヨーク層と第2の磁気ヨーク層の間に位置していて、上記検出縁からゼロ・スロート位置まで延びており、上記第1磁極端層は上記検出縁から上記ゼロ・スロート位置まで上記第1磁気ヨーク層に接しており、上記第2磁極端層は上記検出縁から上記ゼロ・スロート位置まで上記第2磁気ヨーク層に接していることを特徴とする、磁気回路を有する薄膜磁気ヘッド。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特開平2-308407
  • 特開平2-294914

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