ピラゾール誘導体、連鎖移動剤、酸解離性基含有重合体および感放射線性樹脂組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：渡邉一平 , 木川幸治 , 樋口武
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004229750
Publication number (International publication number)：2006045387
Application date： Aug. 05, 2004
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：

【課題】微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用できる感放射線性樹脂組成物および酸解離性基含有重合体、この共重合体の製造に連鎖移動剤として好適に用いることができるピラゾール誘導体を提供する。【解決手段】式(1)で示されるピラゾール誘導体およびこの誘導体を連鎖移動剤として用いた重合により得られる酸解離性基含有重合体およびこの誘導体を含む感放射線性樹脂組成物を提供する。【化1】〔式(1)において、R、R3は置換若しくは非置換の、アルキル基、脂環族基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロアリール基を示し、nは0〜3の整数である。R1、R2は水素原子、若しくは置換若しくは非置換の、アルキル基又は脂環族基を示す。また、R1とR2はそれぞれ互いに結合して1つ以上の環を形成してもよい。〕【選択図】なし

Claim (excerpt)：

式(1)で示されるピラゾール誘導体。

IPC (7)：

C08F 2/38 , C07D 231/14 , C08F 220/16 , C08F 220/28 , G03F 7/033 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (7)：

C08F2/38 , C07D231/14 , C08F220/16 , C08F220/28 , G03F7/033 , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (30)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J011NA16 , 4J011NA17 , 4J011NB06 , 4J011NC02 , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100BA11Q , 4J100BC03R , 4J100BC04R , 4J100BC09R , 4J100BC12P , 4J100BC53Q , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100FA06 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-186493 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-185580 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
国際公開公報WO98/01478号

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