Pat
J-GLOBAL ID：200903088122209725
プラズマ処理方法及びその装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
三好 祥二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991360284
Publication number (International publication number)：1993182916
Application date： Dec. 28, 1991
Publication date： Jul. 23, 1993
Summary：
【要約】【目的】プラズマ処理の信頼性、処理精度、処理品質を向上する。【構成】プラズマ処理中の物理、化学的モニタ値を監視し、該モニタ値が所定の値となる様、該モニタ値と関連の深い制御対象を制御し、プラズマ処理をクローズドループ制御とすることで、プラズマ処理の信頼性、処理精度、処理品質の向上を図る。
Claim (excerpt)：
プラズマ処理中の物理、化学的モニタ値を監視し、該モニタ値が所定の値となる様、該モニタ値と関連の深い制御対象を制御することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
