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J-GLOBAL ID：200903088149476334

有機溶剤蒸気処理装置

Inventor： 岡野 浩志 ,  川上 由基人
Applicant, Patent owner： 株式会社西部技研
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998371995
Publication number (International publication number)：2000189750
Application date： Dec. 28, 1998
Publication date： Jul. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】処理空気中にジメチルスルホキシドが含まれる場合であっても処理可能な有機溶剤蒸気処理装置を提供しようとするものである。【解決手段】ハニカム状の吸着ロータ1と、処理ゾーン4と、第1脱着ゾーン5とを備え、第1脱着ゾーン5の中に第1脱着ゾーン5の脱着空気より高温の脱着空気の送られる第2脱着ゾーン11を設けるようにした。

Claim (excerpt)：

有機溶剤蒸気の吸着剤を有するハニカム状の吸着ロータと、前記吸着ロータに対して少なくとも被処理空気を与える処理ゾーンと脱着空気を与える第1脱着ゾーンとを備え、前記第1脱着ゾーンの中に脱着空気より高温の脱着空気を与える第2脱着ゾーンを設けたことを特徴とする有機溶剤蒸気処理装置。

IPC (5)：

B01D 53/44 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/06 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/74

FI (4)：

B01D 53/34 117 A ,  B01D 53/06 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 117 E

F-Term (29)：

4D002AB03 ,  4D002AC07 ,  4D002AC10 ,  4D002BA03 ,  4D002BA04 ,  4D002BA05 ,  4D002CA05 ,  4D002DA41 ,  4D002DA45 ,  4D002DA70 ,  4D002EA08 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB04 ,  4D002GB11 ,  4D012CA11 ,  4D012CC05 ,  4D012CD01 ,  4D012CE02 ,  4D012CF02 ,  4D012CF03 ,  4D012CF04 ,  4D012CF05 ,  4D012CF08 ,  4D012CG03 ,  4D012CK05 ,  4D012CK06