Pat
J-GLOBAL ID:200903088155618175

高純度銅配線基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 平田 忠雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997229016
Publication number (International publication number):1999068271
Application date: Aug. 26, 1997
Publication date: Mar. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】 容易に銅配線ピッチの微細化が図れ、温度サイクルの信頼性が向上し、エレクトロマイグレーションを低減し、めっき異常析出を防止する高純度銅配線基板を提供する。【解決手段】 ポリイミドフィルム6上に半導体素子9と接続される所定の銅配線2を有し、銅配線2は、99.99重量%以上の純度の銅配線であり、電解銅箔、電気銅めっき、または無電解銅めっきによって形成される。
Claim (excerpt):
基板上に所定の配線層を有する高純度銅配線基板において、前記配線層は、99.99重量%以上の純度の銅配線層であることを特徴とする高純度銅配線基板。
IPC (3):
H05K 1/09 ,  H01L 23/12 ,  H05K 1/02
FI (3):
H05K 1/09 A ,  H05K 1/02 N ,  H01L 23/12 L
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
  • 特開平3-060192
  • 特開昭62-112763
  • 特開平2-263957
Show all

Return to Previous Page