Pat
J-GLOBAL ID:200903088158977826

一体型化学合成装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1995525811
Publication number (International publication number):1998501167
Application date: Mar. 29, 1995
Publication date: Feb. 03, 1998
Summary:
【要約】高圧下で連続流反応装置(100、60、70)を使用して、反応混合物中の均一な温度を特徴とする、化合物合成のためのモジュール型反応装置システム(図を参照)および方法。本装置は、いくつかの一般的な成分(例えば、ポンプ、流路(81、82、83、84)、マニフォールド、制流子、および弁)を含む。組立て板(80)上のモジュール型反応装置(100、60、70)、分離装置および分析装置は、モジュール型反応装置ユニット(100、60、70)が、反応ゾーン内の対流時間を最適に制御するために、100ミクロン以下の内径を有するシステムを提供する。
Claim (excerpt):
以下を含んでなるモジュール型化学反応システム:(a)約1nl〜約10μlの反応チャンバー容量を有するモジュール型反応装置;(b)分離チャンバー;(c)分析装置;および(d)要素(a)〜(c)を取り付けるための、かつそれらの間の流れを連絡させる組立て板。
IPC (2):
B01J 19/00 ,  C07B 61/00
FI (2):
B01J 19/00 Z ,  C07B 61/00 C
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 特開平4-307349
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-307349

Return to Previous Page