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J-GLOBAL ID：200903088161925225

毛髪化粧料

Inventor： 鈴木 勉 ,  茂木 麻美 ,  山縣 義文
Applicant, Patent owner： ライオン株式会社
Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991073560
Publication number (International publication number)：1993092911
Application date： Jan. 18, 1991
Publication date： Apr. 16, 1993
Summary：

【要約】【構成】 (A)一般式【化1】(A1,A2:C2、C3アルキレン基、a:8〜20、b、c:0〜80、n:5〜25)で表わされるポリオルガノシロキサンと、(B)両性高分子化合物及び陽イオン性高分子化合物の中から選ばれた少なくとも1種の高分子化合物を含有する毛髪化粧料。【効果】 仕上り後の毛髪の整髪力に優れ、かつベタツキがない上、再整髪が可能な毛髪化粧料が得られる。この毛髪化粧料はヘアリキッド、スタイリングフォーム、ブロー剤、ヘアミストなどに適用される。

Claim (excerpt)：

(A)一般式(I)【化1】(式中のA1とA2は炭素数2又は3のアルキレン基、aは8〜20の整数、b及びcはそれぞれ0又は1〜80の整数、nは5〜25の整数である)で表わされるポリオルガノシロキサンと(B)両性高分子化合物及び陽イオン性高分子化合物の中から選ばれた少なくとも1種の高分子化合物とを含有することを特徴とする毛髪化粧料。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭60-083299