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J-GLOBAL ID：200903088173271433

酸化チタン薄膜の製造法

Inventor： 古賀 正太郎 ,  金森 正晃
Applicant, Patent owner： エヌオーケー株式会社
Agent (1)： 吉田 俊夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997367741
Publication number (International publication number)：1999199230
Application date： Dec. 26, 1997
Publication date： Jul. 27, 1999
Summary：

【要約】【課題】 テトラ低級アルコキシチタンを加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを基材表面に付着させ、これを加熱焼成して得られる酸化チタン薄膜であって、これを光触媒として水中有機物質の分解、除去などに用いた場合、分解効率を高め得るものの製造法を提供する。【解決手段】 テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することによって酸化チタン薄膜を製造する。

Claim (excerpt)：

テトラ低級アルコキシチタンのエチレングリコールモノメチルエーテル溶液を加水分解して得られたチタン含有加水分解ゾルを耐熱性基材表面に付着させ、これを加熱焼成することを特徴とする酸化チタン薄膜の製造法。

IPC (3)：

C01G 23/053 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ZAB

FI (3)：

C01G 23/053 ,  B01J 21/06 M ,  B01J 35/02 ZAB J