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J-GLOBAL ID：200903088197955163

異物等の欠陥検査方法及びその装置

Inventor：
松本 俊一

About 松本 俊一

, 
宍戸 弘明

About 宍戸 弘明


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 秋本 正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995176396
Publication number (International publication number)：1997026396
Application date： Jul. 12, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：
【要約】【目的】 検査条件の設定を容易にし検査欠陥の分類・判定を行うこと。【構成】 欠陥検出シミュレータ1が予め、表面構造がモデル化された被検査試料の表面からの散乱光の分布と被検査試料上に存在する異物等の欠陥からの散乱光の分布とに基づき、光強度分布と装置6における検出器の検出出力とを求め、これにより被検査試料表面の検出出力と前記欠陥の検出出力との比が最大となる条件を求めて検査条件14を規格化するので、欠陥検査装置6による検査条件14を容易に設定でき、そのため、作業の効率化、安定化、作業者の負担の軽減をできる。
Claim (excerpt)：
検査試料の表面から発生する散乱光と、検査試料に存在する異物から発生する散乱光とに基づいて異物等の欠陥を検査する装置において、予め、表面構造がモデル化された被検査試料の表面から発生する散乱光の分布と被検査試料上に存在する異物等の欠陥から発生する散乱光の分布とに基づき、光強度分布と装置における検出器の検出出力とを求め、該光強度分布と検出出力とに基づき、被検査試料表面の検出出力と前記欠陥の検出出力との比が最大となる条件を求めて検査条件を規格化しておくシミュレーション工程と、該規格化された条件の下で、実際の検査試料を前記装置によって検査し、かつ出力する検査工程と、該検査工程による実際の検査結果と前記シミュレーション工程による検出出力とを比較し、実際の異物等の欠陥の大きさを判定すると共に、該欠陥の形状を分類・判定する工程とを有することを特徴とする異物等の欠陥検査方法。
IPC (2)：
G01N 21/88 ,  H01L 21/66
FI (3)：
G01N 21/88 E ,  G01N 21/88 G ,  H01L 21/66 J
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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